AZO靶材即為氧化鋅鋁靶材，以氧化鋅為主，摻雜氧化鋁，是一種N型半導體材料，AZO靶材的燒結通常采用常壓燒結、熱壓燒結及氣氛燒結方法，常壓燒結是最常用的燒結手段；常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。
AZO旋轉靶采用冷壓燒結工藝，綁定在背管上制得，尺寸可根據客戶要求定制。
AZO平面靶采用注漿燒結工藝，澆鑄在背板上制得，尺寸可根據客戶要求定制。
應用領域：顯示屏及觸摸屏配線及其保護膜，太陽能光吸收層、半導體配線，裝飾鍍膜等行業。
純度：99.95%、99.99%；電阻率（20°C）：≤1x10ˉ3Ω?cm 。
常用比例：ZnO:Al2O3=98:2（wt%）。
應用領域：薄膜太陽能電池的電極、透明導電玻璃與柔性膜、等離子顯示、紅外反射與防護等領域。
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